Keramisches Substrat

Produktname:Keramisches Substrat

Material:Aluminium nitrid (AlN)

Abmessungen:120*120*15mm

Verarbeitung methode:5-Achsen-CNC-Bearbeitung

Produkt merkmale:

Als kritische Komponente in der Halbleiter herstellung erfordern keramische Substrate extreme Präzision und strukturelle Komplexität. Unsere fortschritt liche 5-Achs-CNC-Technologie überwindet die Bearbeitungs herausforderungen, die sich aus der hohen Härte und Sprödigkeit von Keramik ergeben. Durch präzise mehrachsige Synchron isation und dynamische Werkzeug weg optimierung erreichen wir eine einstufige Bearbeitung von komplizierten Mikro löchern, gekrümmten Oberflächen und unregelmäßigen Konturen mit Maß toleranzen, die konstant innerhalb von ± 0,005mm gesteuert werden.

Um der Anfälligkeit von Keramiken für Chipping zu begegnen, haben wir proprietäre kunden spezifische Werkzeuge und ein intelligentes temperatur gesteuertes Kühlsystem in Kombination mit geschichteten progressiven Schneid techniken entwickelt. Dies gewähr leistet eine Oberflächen beschaffenheit von Ra 0,2 μm, frei von Mikrorissen und mit außer gewöhnlicher Kanten integrität.

Ein geschlossenes Qualitäts prüfungs system garantiert die Gleichmäßigkeit der Produkte und bietet hoch zuverlässige, leistungs starke Präzisions-Keramik substrat lösungen für Halbleiter geräte. Unsere Expertise in der Bearbeitung von fortschritt licher Keramik setzt Maßstäbe für die Industrie.